中国科技公司申请创新5纳米芯片制造方法专利

一项名为“5纳米芯片制造的直接蚀刻方法”的专利，由一家中国科技公司提出并于9月15日正式公布。这一发明涉及芯片设计和制造，其独特之处在于，不需要使用EUV光刻机或DUV光刻机，也不需要传统的光刻过程，而是通过直接蚀刻的方式来制造5纳米芯片。这一专利的公布引起了广泛关注，许多人对申请这一专利的中国科技公司产生了浓厚兴趣。

这家申请专利的中国科技公司名为“上海创消新技术发展有限公司”。根据企查查APP提供的信息，上海创消新技术发展有限公司成立于2019年3月13日，注册资本为50万元人民币，位于上海市青浦区。公司的法定代表人是刘明革，他同时也是上海敏革化学科技有限公司的股东和监事，持有上海创消新技术发展有限公司85%的股份，其余15%的股份由名为“刘佳慧”的个人持有。值得注意的是，大型公司并没有持有上海创消新技术发展有限公司的股份。

根据工商信息，上海创消新技术发展有限公司的经营范围包括机械技术、电子技术、化工技术、建筑技术、生物技术等领域内的技术开发、技术转让、技术服务和技术咨询。然而，该公司的经营范围似乎不包括与芯片相关的内容，如芯片设计和芯片制造。